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无需EUV光刻机,中芯国际7nm工艺细节曝光


文章作者:www.orrapin.com 发布时间:2020-02-26 点击:893



SMIC 2019年第四季度

2月14日上午,SMIC联合CEO梁梦松博士和赵海军博士介绍了新皇冠肺炎对公司的影响以及新N 1和N 2流程的进展。

根据SMIC昨天发布的2019年第四季度财务报告,季度收入为8.39亿美元,比去年同期的7.88亿美元增长6%,环比增长2.8%。毛利为1.99亿美元,比去年同期的1.34亿美元增长了近50%。

据了解,SMIC 2019年全年增长的原定目标是20 ~ 21%,但由于产能利用率高,成本控制好,增长率高于预期。中国业务增长尤为强劲,第四季度中国营收同比增长11%,同比增长21%。

在新财年,赵海军博士指出,新的冠状病毒流行肯定会对企业和收入产生负面影响。此时,没有人能够清楚地了解疫情的整体影响,但根据客户反馈,SMIC第一季度的收入和毛利率将非常高,不会受到任何影响。第二季度的影响将慢慢显现,但到了第三季度,SMIC将拥有额外的能力和技术平台来弥补第二季度的损失。

在技术方面,财务报告显示,在2019年第四季度大规模生产的14纳米技术为SMIC带来了768万美元的收入,但在整个第四季度,该收入只占不到1%。然而,SMIC 14纳米工艺目前面临的主要问题是其生产能力。目前,SMIC的14纳米工艺主要在上海SMIC南部的12英寸晶圆厂生产。去年年底,大约生产了1000个晶圆,这是非常低的。

然而,据SMIC联合CEO梁梦松表示,今年3月份的月产量将达到4000台,7月份达到9000台,12月份达到1台。

此外,SMIC还将在14纳米的基础上引入一种改进的12纳米工艺。据介绍,与14纳米晶体管尺寸相比,该工艺进一步小型化,功耗降低了20%,性能提高了10%,错误率降低了20%。目前,它已经进入了客户介绍阶段。

然而,即使是12纳米工艺也比TSMC和三星最先进的5纳米工艺落后2-3代。因此,SMIC也在加速研发更先进的工艺。

在本次财务报告会议上,梁梦松博士还首次披露了SMIC的N 1和N 2技术。

梁梦松博士说,与现有的14纳米工艺相比,SMIC的N 1工艺性能提高了20%,功耗降低了57%,逻辑面积降低了63%,SoC面积降低了55%。

虽然梁梦松博士不知道这个N 1过程是一个10纳米的过程还是一个7纳米的过程,但根据上面公布的逻辑Mina和简化数据,它可能是一个7纳米的过程。然而,业内也有报道称,SMIC将跳过10纳米工艺,直接开发7纳米工艺。

不过,梁梦松博士也表示,N 1代工艺在功耗和稳定性方面与7纳米工艺非常相似,但其性能不如行业标准高35%。因此,SMIC的N 1工艺主要针对低功耗应用。

在N 1之后,SMIC将有N 2。这两个过程的功耗相似。区别在于性能和成本。N 2显然倾向于高性能,成本也会增加。

关于投产日期,在之前的财务报告中,梁梦松博士提到生产能力将在2020年底进行测试,实际生产可能要等到2021年。

对于SMIC从ASML订购的EUV光刻机,以前引起了很多关注,SMIC官员没有对因“出口许可证过期”而暂停交货做出回应。然而,梁梦松博士说,在目前的环境下,N 1和N 2的生成过程都不会使用EUV技术,并且N 2之后的过程在设备准备好之前不会转向EUV光刻过程。

显然,SMIC 7纳米工艺的路线规划与TSMC以前的路线相似。TSMC一开始也选择了原来的DUV工艺来开发7纳米,直到去年才开始引入基于EUV工艺的7纳米。然而,掩模层的数量相对较少,而5nm节点充分利用了EUV力

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